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Nella chemical vapor deposition (CVD) i precursori (polveri e/o gas) sono trasportati in fase vapore in un tubo aperto da un gas carrier inerte, per poi reagire in una zona calda e sintetizzare le nanostrutture di interesse. Si tratta di una tecnica a basso costo ma estremamente versatile che permette un buon controllo della sintesi di diverse tipologie di nanostrutture.
La tecnica è utilizzata per la deposizione di diversi tipi di nanostrutture quali:
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