Caratterizzazioni Strutturali e di Superficie
Referente: Rossi Francesca
Tecniche di diffrazione a Raggi X
   PER MAGGIORI INFO SU QUESTA TECNICA: Claudio Ferrari (claudio.ferrari@imem.cnr.it, tel 0521-269222)

 

Diffrazione ad alta risoluzione e mappe di reticolo reciproco

Setup e metodologia:

X-PertPro instrument X-PertProScheme

Diffrattometro X-Pert-Pro ad alta risoluzione con monocromatore Goebel e cristalli analizzatori sul fascio incidente e sul fascio diffratto in grado di ridurre la dispersione cromatica a 10-4 e la risoluzione angolare a 12 secondi d'arco.

Highlight:

mappa di reticolo reciproco

Mappa di reticolo reciproco di strati di SiGe e Ge alternati (SR) cresciuti su un buffer layer di SiGe a composizione gradata su substrato di silicio.

 

Metodo delle mappe polari e della misura della tessitura in film sottili e leghe

Setup e metodologia:

setup figure polari Texture Scheme
Misura di "tessitura", mappe polari di film sottili e materiali Schema di misura

Highlight:

esempio di figure polari

Mappe polari di un film di Ga2O3 su zaffiro, che mostrano la rotazione dei due reticoli.

Topografia a raggi X a doppio cristallo

Setup e metodologia:

setup topografia

Highlight:

Top1
Top2

Topografie a raggi X di un wafer di SiC, diffrazione 11-28, in presenza di dislocazioni (sinistra) e un bordo di grano a basso angolo (destra). Il lato orizzontale dell'immagine corrisponde a 3.3 mm.

Diffrazione da film sottili

Setup e metodologia:

ThinFilm ThinFilmScheme

Diffrattometro per film sottili con monocromatore Goebel

Highlight:

Ga2O3

Profili di diffrazione di film di Ga2O3 su range angolare tra 10° e 150° depositati su subtrato di zaffiro.